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Substratos cristalinos de óxido de zinco
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Substratos cristalinos de óxido de zinco

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O óxido de zinco é um amplo material semicondutor de lacunas de banda Possui amplas aplicações em potenciais em dispositivos fotoeletrônicos semicondutores de alta eficiência, fotocatálise semicondutores e semicondutores magnéticos diluídos. Por causa da integridade da treliça, os cristais únicos de Zn O são essenciais para a fabricação de dispositivos semicondutores baseados em Zn O de alta qualidade. É também um material de substrato ideal para o crescimento epitaxial de vários filmes finos. A MSE Supplies oferece muitas opções para cristais e substratos de Zn O para atender aos requisitos técnicos específicos dos clientes. Entre em contato conosco para discutir seus requisitos com nossos cientistas e engenheiros. Main Parameters Crystal structure Hexagonal Purity99.99%Lattice parametersa=3.7 g/cm3 Hardness4 Mohs Melting point1975 degree CThermal expansion coefficient (CTE)6.5 x 10^-6 /K along a axis, 3.7 x 10^-6 /K Ao longo do coeficiente de Axissebeck de C a 300 Kthermal Condutivity0.006 Cal/cm/transmissão Koptical> 50% para 2 mm de espessura (comprimento de onda de 400nm ~ 600nm) Plano de orientação-cristal (0001), um plano (11-20), plano M (1 1 -100) +/- 0,5 graus (mm) 5x5 mm, 10x10 mm, 25x25 mm, outros tamanhos e orientações estão disponíveis mediante a rugosidade da superfície do requests.

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